KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：52

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 真空插板閥（真空閥門(mén)）用于激光真空系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國(guó)HVA帶孔真空插板閥（真空閥門(mén)）真空閘閥廣泛用于激光真空系統(tǒng)伯東公司代理美國(guó)HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門(mén)廣泛用于激光真空系統(tǒng)HVA Gate Valve在激光真空系統(tǒng)上的應(yīng)用伯東企業(yè)（上海）有限公司, 為美國(guó)HVA 真空閥門(mén)在中國(guó)境內(nèi)的代理商, 并負(fù)責(zé)HVA Valve 真空閥門(mén)在中國(guó)地區(qū)的銷(xiāo)售

• HVA 真空閥門(mén)應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機(jī)

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門(mén)?11000, HVA?真空閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.E-Beam?鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進(jìn)樣室 

• KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸

• KRI 離子源應(yīng)用于舞臺(tái)燈光濾光片鍍膜

  ?? 舞臺(tái)燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過(guò)在光源前加上特定的光學(xué)濾光片,?對(duì)光進(jìn)行“加工”,?反射和透過(guò)特定的波段,?來(lái)達(dá)到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產(chǎn)生不同顏色.?而在光學(xué)元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜