分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：145

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  詞條說明

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

• HVA 矩形閥 Load-lock 典型應(yīng)用

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應(yīng)用上海伯東某生產(chǎn)原生多晶矽料生產(chǎn)設(shè)備, 矽片加工設(shè)備, 晶體矽電池生產(chǎn)設(shè)備企業(yè), 使用美國(guó)?HVA 矩形閥用于真空機(jī)臺(tái)的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規(guī)格內(nèi)的矽片生產(chǎn)線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般

• 分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)

  Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)上海伯東德國(guó) Pfeiffer 經(jīng)濟(jì)型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應(yīng)用于玻璃封管抽真空, 進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn), 主要應(yīng)用如下:系統(tǒng)真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內(nèi)放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩(wěn)定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對(duì)燒結(jié)的不良影響, 然后對(duì)

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

  立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點(diǎn), 在切削工具/ 材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.?在對(duì)立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用