詞條
詞條說明
光掩膜(mask)資料:在半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程中,其中一部分就是從版圖到wafer制造中間的一個(gè)過程,即光掩膜或稱光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關(guān)鍵部分,是流程中造價(jià)較高的一部分,也是限制較小線寬的瓶頸之一。光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外,還廣泛的應(yīng)用與像LCD,PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分,基板和不透光材料。基板通
一、如何判斷碼盤是否損壞:首先,要到電機(jī)處,通過聽電機(jī)旋轉(zhuǎn)的聲音來判斷,在電機(jī)處是否能聽到均勻的電磁聲,其次,通過監(jiān)控手段來采集電機(jī)的速度和電流波形。若在電機(jī)處聽到的聲音不是均勻的電磁聲可能就是碼盤壞了,若聽到均勻的電磁聲,則要通過監(jiān)控曲線來分析,要在監(jiān)控軟件(我們現(xiàn)場(chǎng)所用的IBA和ODG)中采集電機(jī)的給定速度、反饋速度、反饋電流,若反饋速度與給定速度之間有大的畸變,則可能是碼盤損壞,若沒有大的畸
掩膜版是制作掩膜圖形的理想感光性空白板,通過曝光過程,這些圖形的信息將被傳遞到芯片上,用來制造芯片。掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanica
往復(fù)式(活塞式)壓縮機(jī)在工業(yè)發(fā)展中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用特別是在制冷設(shè)備領(lǐng)域。壓縮機(jī)的**部件是氣閥作為氣閥的重要組成部分其壽命決定了壓縮機(jī)的故障維護(hù)時(shí)間。因此閥板材料的選擇是影響氣閥可靠性的關(guān)鍵因素之一。圖1:氣閥結(jié)構(gòu)圖壓縮機(jī)閥片對(duì)材料的要求n 高韌性:閥片需要高韌性。當(dāng)它承受沖擊力時(shí)它可以吸收一定的熱量或者當(dāng)有裂紋時(shí)它可以防止裂紋繼續(xù)擴(kuò)張。n 抗疲勞:閥片需要高頻往復(fù)沖擊因此閥片需要具有優(yōu)異的抗
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 孟經(jīng)理
電 話: 010-83687269-813
手 機(jī): 18510854368
微 信: 18510854368
地 址: 北京豐臺(tái)北京市豐臺(tái)區(qū)南三環(huán)西路春蘭大廈1號(hào)樓2單元2102
郵 編:
網(wǎng) 址: bjhnjg.cn.b2b168.com
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 孟經(jīng)理
手 機(jī): 18510854368
電 話: 010-83687269-813
地 址: 北京豐臺(tái)北京市豐臺(tái)區(qū)南三環(huán)西路春蘭大廈1號(hào)樓2單元2102
郵 編:
網(wǎng) 址: bjhnjg.cn.b2b168.com